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詳細介紹
| 品牌 | 三特爐業 | 加熱方式 | 電阻絲 |
|---|---|---|---|
| 控溫精度 | ±1℃ | 最高溫度 | 1200℃ |
| 價格區間 | 面議 | 儀器種類 | 管式爐 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 食品/農產品,化工,能源,制藥/生物制藥,綜合 |
1200℃管式爐化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料
1、外殼采用金屬Q235低碳鋼，表面靜電耐藥涂裝，抗腐蝕
2、 堅固的雙層金屬框架配合隔熱風扇結構，爐表面溫度低
3、水平使用方式，上開蓋結構，操作方便
多層隔熱設計，由輕質氧化鋁陶瓷纖維和高品質隔熱板背襯組成，不含石棉成分，熱損失小，能耗低
1、高品質HRE螺旋電阻絲發熱體，牢固的鑲嵌在爐膛表面，在爐腔內自由熱輻射加熱，使用壽命長
2、電阻絲環形加熱，從而實現爐內的良好均勻性
1、PID配合SSR控制方式，溫度控制準確
2、國際標準化N型鎳鉻硅熱電偶，測溫范圍0-1300℃，使用壽命長
3、爐門帶有開門斷電保護開關
1、適應復雜工藝需求的的控制器
2、操作簡單直接，編程靈活
3、可編程4條曲線，單條曲線8個程序段
4、超溫和故障報警，自動進行保護
1、帶有304不銹鋼的密封法蘭，獲得爐管內的真空或者氣氛
2、高品質石英玻璃工作管，也可選擇金屬或剛玉材質的工作管，從而適應不同的工況
3、高性能雙極旋片真空泵，可獲得5pa的真空度，數字真空計可顯示真空度
4、帶有氣路控制單元，控制單元可選擇1-3路MFC自動控制系統
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