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【產品名稱】1200℃氣氛箱式爐 【爐膛容積】3L--45L 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1200℃氣氛箱式電阻爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。

【產品名稱】自動門高真空爐-467L 【爐膛容積】467L 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1200℃真空氣氛箱式電阻爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。

【產品名稱】1200℃真空爐（帶觀察窗） 【爐膛容積】96L 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1200℃真空氣氛箱式電阻爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。

【產品名稱】1200℃真空爐（擴散泵機組） 【爐膛容積】30L 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1200℃真空氣氛箱式電阻爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。

【產品名稱】1700℃真空爐（羅茨泵機組） 【爐膛容積】3L--45L 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1700℃真空氣氛箱式電阻爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，配羅茨泵真空機組，真空度5pa，可應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。

【產品名稱】1700℃真空氣氛箱式爐 【爐膛容積】3L--45L 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1700℃真空氣氛箱式電阻爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。